AII微量氧分析儀原子層沉積系統進口微量氧分析儀優選品牌
原子層沉積系統是專門為工業化中試而研制的全自動生產型單腔原子層沉積系統。該系統配備多種材料的標準沉積工藝配方，滿足工業應用需求。AII微量氧分析儀原子層沉積系統進口微量氧分析儀優選品牌
產品優勢：
先進的軟件控制系統：系統集工藝配方、參數設置、權限設定、互鎖報警、狀態監控等功能于一體；
技術指標：AII微量氧分析儀原子層沉積系統進口微量氧分析儀優選品牌
基片尺寸 8英寸及以下
基片加熱溫度 室溫～500℃，控制精度±0.1℃
前驅體輸運系統 標準2路前驅體管路，可選配
前驅體管路溫度 室溫～200℃，控制精度±0.1℃
源瓶加熱溫度 室溫～200℃，控制精度±0.1℃
ALD閥 Swagelok快速高溫ALD專用閥
本底真空 ＜5*10-3Torr，進口防腐泵
載氣系統 N2或者Ar
處理能力 500片8英寸
生長模式 連續高速沉積模式
控制系統 PLC+觸摸屏或者顯示器
電源 50-60Hz, 380V/40A交流電源
沉積非均勻性 非均勻性＜±1% 片間非均勻性 <±1.5%
設備尺寸 1400mmx800mmx2000mm
可沉積薄膜種類：AII微量氧分析儀原子層沉積系統進口微量氧分析儀優選品牌
單 質：Co, Cu, Ta, Ti, W, Ge, Pt, Ru, Ni, Fe…
氮化物：TiN, SiN, AlN, TaN, ZrN, HfN, WN …
氧化物：TiO2, HfO2, SiO2, ZnO, ZrO2, Al2O3, La2O3, SnO2…
其它化合物：GaAs, AlP, InP, GaP, InAs, LaHfxOy, SrTiO3,SrTaO6…
應用實例：AII微量氧分析儀原子層沉積系統進口微量氧分析儀優選品牌
高K柵氧化層，存儲容性電介質，銅互連中高深寬比擴散阻擋層，OLED無針孔鈍化層，MEMS的高均勻鍍膜，納米多孔結構鍍膜，特種光纖摻雜，太陽能電池，平板顯示器，光學薄膜，其它各類特殊結構納米薄膜
AII微量氧分析儀技術參數：
技術參數
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微量氧分析儀傳感器
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電化學氧傳感器
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精度
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0~10ppm ±5%FS
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0~100ppm ±3% FS
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0~1000ppm ±2% FS
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重復性
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0~10ppm ±2.5%FS
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0~100ppm ±1.5% FS
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0~1000ppm ±1% FS
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穩定性
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0~10ppm ±2.5%FS/7d
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0~100ppm ±1.5% FS/7d
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0~1000ppm ±1% FS/7d
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靈敏度
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全量程范圍內0.5%
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響應時間
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T90＜60S（25℃）
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測量介質
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抗氫型：氮氣，氫氣，氦氣，氬氣和碳氫化合物氣體；
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抗二氧化碳型：氮氣，氫氣，氦氣，氬氣，二氧化碳濃度高于1000ppm的氣體和碳氫化合物氣體
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報警觸點容量
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240VAC，0.2A
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供電電源
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85-264VAC 50/60Hz，功耗小于20VA
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通訊
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RS485/RS232（選配）
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環境溫度
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0-45℃
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環境濕度
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＜80%RH
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樣氣溫度
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0-45℃
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測量方式
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氣體通入式
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樣氣壓力
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35-210KPa
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樣氣流量
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1-1.5L/min
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傳感器壽命
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正常使用為24 個月(氧濃度低于1000ppm,常壓,25℃)
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儀器尺寸
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144(L)×144(W) ×190(D)，mm
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微量氧分析儀應用領域：
空氣分離；氣體生產制造檢測；半導體行業保護氣體檢測；回流焊/波峰焊中保護氣體檢測；食品生產過程氣體檢測；石油化工過程中的氣體檢測；惰性氣體和碳氫化合物氣體中的氧濃度檢測。
